国士さまvs有識者さま専用リング その11

5263 ：名無しの読者さん：2026/02/21(土) 14:28:46 ID:HV436QE80

＞ウェハの研磨に使うとか反動他の特性上げる時点で
＞逃げ場がない

　→　ウェハの研磨に使うとか半導体の特性上げる時点で
　　　逃げ場がない

>>5258
　添加物関連だと重量比ならＳＩ（シリコン）に対して5-10%未満　　物による
　ウエハ研磨のほうは1％未満　物によっては0.0幾つとか　　但し、現時点で必須